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蔡司 Sigma 360 场发射扫描电镜
EQUIPMENT · SIGMA 360

扫描电镜 SEM/EBSD

蔡司 Sigma 360 场发射扫描电镜
EBSD 探头:牛津 C-nano+ · EDS 探头:牛津 Xplore 30
  • 二次电子分辨率 0.9 nm @15 kV,低电压 1.3 nm @1 kV
  • 束流稳定性优于 0.2%/h,适合长时间连续 EBSD 采集
  • GEMINI 物镜无漏磁设计,磁性样品亦可高分辨成像
咨询测试服务
0.9 nm
二次电子分辨率 @15 kV
30 kV
加速电压上限(20 V–30 kV)
100 万倍
放大倍数范围 10–1,000,000×
INTRODUCTION

设备简介

蔡司 Sigma 360 采用肖特基热场发射电子枪与 GEMINI 电子光学系统,兼具高分辨率成像与优异的低电压性能, 可清晰观察纳米级表面形貌;束流稳定性优于 0.2%/h,特别适合需要长时间连续采集的 EBSD 应用。

本机搭载牛津仪器 C-nano+ EBSD 探头与 Xplore 30 能谱仪,可在同一台设备上完成形貌观察(SEM)、 晶体取向与织构分析(EBSD)、元素成分分析(EDS)——形貌、结构、成分一次到位。

ADVANTAGES

核心优势

高分辨成像

0.9 nm@15 kV,低电压下 1.3 nm@1 kV,纳米级细节清晰呈现

磁性样品友好

GEMINI 物镜无漏磁设计,纳米磁性材料同样可高分辨成像

长时间连续 EBSD

束流稳定性优于 0.2%/h,大面积成像与批量取向采集稳定可靠

分析一体化

SEM + EBSD + EDS 三合一,形貌、取向、成分同机完成

SPECIFICATIONS

技术参数

设备型号蔡司 ZEISS Sigma 360 场发射扫描电镜(德国)
电子枪Schottky 热场发射电子枪,GEMINI 电子光学系统
二次电子分辨率0.9 nm @15 kV,1.3 nm @1 kV
加速电压20 V – 30 kV,连续可调
放大倍数10 – 1,000,000×
束流稳定性优于 0.2%/h
样品台X 125 mm · Y 125 mm · Z 50 mm · 倾转 −10°~90° · 360° 旋转
EBSD 探头牛津仪器 C-nano+
EDS 探头牛津仪器 Xplore 30 能谱仪
探测器配置In-lens / SE2 / BSD,支持成分衬度与高景深立体成像
APPLICATIONS

应用领域

表面形貌观察 EBSD 取向分析 EDS 成分分析 TKD 透射菊池 ECCI 位错成像 纳米材料 金属材料 半导体 能源电池 纳米磁性材料
RESULTS

成像效果

高分辨 SEM 图像
(图片占位)
高分辨二次电子成像效果
EBSD 取向成像图
(图片占位)
EBSD 晶粒取向与织构成像

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